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细粉加工设备(20-400目)

我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备,拥有多项国家专利,能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目,是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。

超细粉加工设备(400-3250目)

LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术,专注于400-3250目范围内超细粉磨加工,细度可调可控,突破超细粉加工产能瓶颈,是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。

粗粉加工设备(0-3MM)

兼具磨粉机和破碎机性能优势,产量高、破碎比大、成品率高,在粗粉加工方面成绩斐然。

平面研磨的运动轨迹及原理

  • 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 豆丁网

    2015年4月16日 — 可以把研抛过程的轨迹曲线分 为两类: 工件上一定点相对于研磨盘的运动轨迹 2 轨迹分析 平面研抛轨迹曲线直接影响研抛的质量与效 第 4 期 吴宏基等: 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 453 (# 1 ) , 以及研磨盘上一定点相对于工件的运动轨 迹 (# 2 2012年6月23日 — 基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 星级: 4 页 行星式平面研磨机床的运动方式及其轨迹和运动参数的研究行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 机械工程论文

  • 研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗

    2018年6月1日 — 摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱 2017年9月7日 — 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了 XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验

  • UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 百度学术

    推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考 平面研磨轨迹的研究 王琦 【摘 要】以10mm以下量块工艺为例,介绍了实现平面研磨工艺要求的几种方法及研磨轨迹的特性及优缺点 【期刊名称】《机械工程师》 【年 (卷),期 平面研磨轨迹的研究 百度文库

  • 偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

    2018年5月12日 — 摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律,建立运动轨迹模型,用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明:偏摆幅度和偏 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,X XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术

  • 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 百度学术

    摘要: 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理 从节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,根 2018年6月1日 — 研磨过程中磨粒轨迹分布方面的研究ꎮ杨昌明等[11] 研究了行星齿轮和太阳轮的转速与磨粒运动轨迹以及 研磨平面质量的关系ꎻ赵文宏等[12]研究了定偏心与不 定偏心研磨方式对平面研磨均匀性的影响ꎬ讨论了研研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗

  • 平面研磨的运动轨迹及原理

    平面研磨机的优缺点,设计了一种新的平面研磨机,着重对此研磨机的运动和运动轨迹3 羡一民双频激光干涉仪的原理与应用(一)[J]工具技术1996年04期 4 李志可靠性工程、工业工程、流体传动与控制(E辑)2002, Vol 38 Issue (6): 144基于行星式平面研磨机研抛过程的 密封面研磨的基本原理包括研磨过程、研磨运动、研磨速度、研磨压力及研磨余量五 运动方向的不断变化使每一磨粒不会在密封圈表面上重复自己运动轨迹,以免造成 其小研磨余量为:直径余量为0008~0020mm;平面余量为0006~0015mm。平面研磨的运动轨迹及原理

  • 基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 道客巴巴

    2015年1月13日 — 第38卷第6期机械工程学报v。1.38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了 11 行星式研磨原理及轨迹 平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构,如图1 所示,被加工件放在行星轮孔内,行星轮除绕太阳轮中心公转外,还绕自己中心旋转。由于行星轮的自转使工件中心与研磨盘中心之间的距离随时间周期性变化,故该行星式 行星式双平面多工件研磨盘设计 百度文库

  • 平面研磨的运动轨迹及原理

    2009年5月1日 — 平面研磨的运动轨迹及原理 研磨机研磨运动轨迹分析《机床与液压》2012年15 期 摘要:研磨是一种利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的工艺方法。在平面研磨中,要求工件运动轨迹均匀地遍及整个下载全文 更多同类文献 PDF全文下载 4) “8 ” 字形研磨 运动轨迹。适用于小平面工件的研磨和平板类工件的修 整, 能使相互研磨的平面介质均匀接触 , 并使研具均匀地 磨损。 1. 1 行星式研磨原理及轨迹 平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构 , 如图 1 所示, , 被加工件放在行星轮孔内行星式双平面多工件研磨盘设计边培莹 百度文库

  • 平面研磨的运动轨迹及原理

    密封面研磨的基本原理包括研磨过程、研磨运动、研磨速度、研磨压力及研磨余量五个方面 1研磨过程 研具与密封圈表面很好的贴 在线咨询 通过轨迹插补和实时控制,在每个伺服控制周期给出各个联动坐标轴的运动增量,实时控制所有坐标轴的联动2021年1月26日 — 平面研磨的运动轨迹及原理 2013年1月8日 平面研磨机的运动和轨迹分析上海中晶企业发展有限公司JOM 隔离盘作行星运动的平面研磨机的运动又有两种情况。上、下研磨盘固定不动,研磨运动 UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 《东北大学 平面研磨的运动轨迹及原理

  • UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 百度学术

    本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件,以UNIPOL802平面研磨机为试验平台,运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法,从磨粒运动轨迹的角度着手,重点研究了平面研磨加工时工件转速及加工表面质量的影响因素,主要内容如下: 对平面研磨技术基础概念2016年6月28日 — 在加工过程中工件表面的磨粒轨迹由上研磨盘、下研磨盘、太阳轮和齿圈的转速共同决定,磨粒轨迹直接影响着工件表面材料的去除效率,工件相对于研磨盘的运动轨迹影响着盘面的磨损情况,在双面研磨 行星式双面研磨的加工原理及重要意义 综合新闻

  • 研磨百度百科

    研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各种金属和非金属材料,加工的表面形状有平面,内、外圆柱面和圆锥面, 平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化Speed)、外齿圈转速Speed)、上/下研磨盘转速翻P(Upper/PlateSpeed)。 修盘器运动速度包括:围绕中心齿轮的公转、修盘器相对自身中心的自转。修盘器 结构如图,它利用修盘器上分布的金刚石磨片,通过 修盘 平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 百度文库

  • XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验

    2017年9月7日 — 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。2013年9月11日 — 新设计平面研磨机的运动和轨迹分析 新设计平面研磨机的运动 长沙工程兵学院()颜拍桦, ,——一 1 摘要本文介绍了国内外刃磨硬质台金刀片端平面的几种方法,分析 了当前正在使用的平面研 磨机的缺点,设计了一种新的平面研磨机着重对此研磨机的运 新设计平面研磨机的运动和轨迹分析 豆丁网

  • 双面研磨运动轨迹模拟与分析 道客巴巴

    2019年3月17日 — 机电机械68018年11月0双面研磨运动轨迹模拟与分析郭晓峰范飞戚振华王献伟洛阳金诺机械工程有限公司,河南洛阳摘要:本文建立行星式双面研磨机行星轮运动轨迹的数学模型,利用VB软件对研磨轨迹进行了研究,分析不同研磨盘转速、不同速比下的相对运动轨迹状态及对研磨质量的影响。通过 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究对试件研磨表面的平面度与 XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术

  • 研磨加工的运动特点及其运动轨迹 百度文库

    研磨加工的运动特点及其运动轨迹1、直线形直线研磨运动的轨迹不能相互交错,否则容易直线重迭,使工件难以得到高的光洁度,但可获得较高的几何精度。 所以它适用于阶台的狭长平面工件的研磨。2、螺旋形通常用来研磨圆片形或圆柱形工件的端 2017年5月6日 — 第二章 平面研磨轨迹分析与设计 21平面研磨的运动条件及工作原理 211研磨运动条件 研磨是利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的过程 。研磨工件表面的尺寸精度、形位精度、研磨工具的寿命及研磨效率等,在很大程度上取决于研磨运动。平面双面研磨机构机械CAD图纸设计doc 62页 原创力文档

  • 平面研磨的运动轨迹及原

    手工研磨平面的运动轨迹形式,常用的有螺旋线式和8球磨机的工作原理及机内运动轨迹分析知乎,当研磨体以抛物线轨迹降落后,到达降落终点,此瞬时的研磨体中心点称为降落点,各层研磨体降落点的连线称为降落点轨迹,如下图中的CD 线。以上便是 2016年4月10日 — 行星式平面研磨机床的运动方式及其轨迹 和运动参数的研究 星级: 2 页 基于UG的蓝宝石衬底基片双面研磨轨迹研究 行星式双面研磨的加工原理如图 1 所示,放置在游星轮内的工件随游星轮一起在太阳轮和齿圈的差动作用下做行星运动, 行星式双面研磨轨迹均匀性研究 道客巴巴

  • 变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验

    2013年3月21日 — 摘要: 针对传统平面研磨方法中,工件中心研磨轨迹重复率高,研磨速度径向分布不均的缺点,基于固着磨料研磨技术提出一种变位自转式双平面研磨加工方法。 工件在研具的运动中获得变化的研磨力,在隔离盘内实现变位自转的研磨运动形式。从研磨原理上改变了传统研磨加工中工件的运动模式,增加了 2019年12月1日 — 第4章在分析双平面研磨加工原理的基础上,对工件的受力情况进行了分析和仿真,同时运用ADAMS软件进行了研磨轨迹仿真分析。 2.4 基于单颗磨料运动的研磨轨迹 仿真分析 2.4.1 初始点向径对研磨轨迹曲线的影响 2.4.2 初始相位角对研磨 平面研磨加工机理研究 读书网dushu

  • 研磨机研磨运动轨迹分析 百度文库

    研磨机研磨运动轨迹分析研磨是一种利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的工艺方法。针对某端面研磨机的设计,提出两自由度差动轮系机构的主传动方案,分析工件与研具之间的相对运动。采用Matlab软件进行运动轨迹仿真,结果表明:研磨机中行星2017年3月10日 — 主要用于工件内、外圆柱面,平面及圆锥面的研磨。模具零件研磨时常用。 3)机械研磨:工件、研具的运动均采用机械运动。加工质量靠机械设备保证,工作效率比较高。但只能适用于表面形状不太复杂等零件的研磨。 (2)按研磨剂的使用条件什么是研磨?它的基本原理是什么?

  • 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 百度学术

    分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理 从节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,根据其速比的取值不同,将行星式平面研抛运动归结为3种类型;分析了其轨迹曲线类型 为进一步基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距 条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘,研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及 基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 百度文库

  • 偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

    2018年5月12日 — 摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律,建立运动轨迹模型,用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明:偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著,而偏摆角速度(取到非特殊值时)对轨迹非均匀性影响很小。笔者通过对双面研磨进行运动学分析和建立轨迹、速度方程,详细地介绍了一种基于Matlab离散统计的轨迹均匀性定量评价方法,并用该方法给出了特定参数下研磨轨迹的分布均匀性方差,解决了长期以来行星式双面研磨轨迹仿真分析优化中无法准确定量评价轨迹分布行星式双面研磨轨迹均匀性研究百度文库

  • 研磨工艺原理 豆丁网

    2011年12月23日 — 要正确处理好研磨的运动轨迹是提高研磨质量的重要条件。在平面研磨中,一般要求:①工件相对研具的运动,要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近;②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面,以利于研具均匀磨损;③运动轨迹的曲率变化要小,以 2012年7月30日 — 2007年11月第八届全国摩擦学大会论文集November2007平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化卢万佳李维民杨华(深圳开发磁记录殷份有限公司厂东深圳)摘要:为提高硬磁盘基片平面研磨的加工品质,本文利用计算机仿真对其研磨盘的修盘工艺进行运动学模拟,通过统计修盘器磨片相对研磨盘所划 平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 道客巴巴

  • 研磨运动轨迹在线检测系统设计doc 33页 原创力文档

    2018年3月1日 — 设计一种系统,可以对研磨运动轨迹进行在线检测,完成相关系统的软硬件设计。 第二章 平面研磨轨迹总体方案 21平面研磨的运动条件及工作原理 211研磨运动条件 研磨是利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的过程 。2015年8月5日 — 1.1行星式研磨原理及轨迹平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构,如 图1所示,被加工件放在行星轮孔内,行星轮除绕太阳轮中心公转外,还绕自己中心旋转。由于行星轮的自转使工件中心与研磨盘中心之间的距离随时间周期性变化,故该 行星式双平面多工件研磨盘设计 豆丁网

  • 平面研磨机运动参数分析和计算机床商务网

    2011年8月15日 — 3新设计的平面研磨机主要运动参数的选定 31运动及运动轨迹 实验结果表明,新设计的平面研磨机的研磨运动和运动轨迹必须满足以下要求:*,合金刀片平面相对于研磨盘的运动方向应不断变化,这样才可避免有纹磨削;第二,应当使刀片上每点相对于 材料的去除率密切相关 文献[]从摩擦学原理 4 出发,过计算机模拟了磨粒切痕方向、粒轨迹通磨形态的变化过程,示了运动参数对工件的表面揭质量、理方向及表面完整性的影响规律 本文纹将重点研究行星式平面研磨抛光机的运动原理、 轨迹曲线及运动参数行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 文档下载网

  • 阀门研磨的原理及工具的发展简述 调节阀网

    2011年11月1日 — 调节阀的密封是靠阀座与阀瓣实现的。因此,阀门中阀瓣与阀座的加工是阀门生产中的关键。为了确保阀门的密封性能,要求阀座与阀瓣在加工中具有较高的表面粗糙度和平面度,因此需要对其密封面进行研磨。研磨加工的质量合效率,将直接影响阀门的质量和 2020年4月29日 — 球磨机被广泛用于矿山、建筑材料、耐火材料、玻璃陶瓷等行业作为磨粉作业的主要设备。那么球磨机的工作原理及运动轨迹你都了解么?下面小编带你深入了解其原理及运动轨迹。球磨机的工作原理及机内运动轨迹分析物料

  • 镜面抛光机有哪些作用及原理?

    2024年3月28日 — 同时工件被固定在抛光机的工作台上,通过调整抛光工具与工件之间的压力和相对运动轨迹 平面研磨机是干什么用的?平面研磨 机是可以磨什么东西?#热点引擎计划# 举报/反馈 惠州市大精研磨科技有限公司 2018年6月1日 — 研磨过程中磨粒轨迹分布方面的研究ꎮ杨昌明等[11] 研究了行星齿轮和太阳轮的转速与磨粒运动轨迹以及 研磨平面质量的关系ꎻ赵文宏等[12]研究了定偏心与不 定偏心研磨方式对平面研磨均匀性的影响ꎬ讨论了研研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗

  • 平面研磨的运动轨迹及原理

    平面研磨机的优缺点,设计了一种新的平面研磨机,着重对此研磨机的运动和运动轨迹3 羡一民双频激光干涉仪的原理与应用(一)[J]工具技术1996年04期 4 李志可靠性工程、工业工程、流体传动与控制(E辑)2002, Vol 38 Issue (6): 144基于行星式平面研磨机研抛过程的 密封面研磨的基本原理包括研磨过程、研磨运动、研磨速度、研磨压力及研磨余量五 运动方向的不断变化使每一磨粒不会在密封圈表面上重复自己运动轨迹,以免造成 其小研磨余量为:直径余量为0008~0020mm;平面余量为0006~0015mm。平面研磨的运动轨迹及原理

  • 基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 道客巴巴

    2015年1月13日 — 第38卷第6期机械工程学报v。1.38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了 11 行星式研磨原理及轨迹 平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构,如图1 所示,被加工件放在行星轮孔内,行星轮除绕太阳轮中心公转外,还绕自己中心旋转。由于行星轮的自转使工件中心与研磨盘中心之间的距离随时间周期性变化,故该行星式 行星式双平面多工件研磨盘设计 百度文库

  • 平面研磨的运动轨迹及原理

    2009年5月1日 — 平面研磨的运动轨迹及原理 研磨机研磨运动轨迹分析《机床与液压》2012年15 期 摘要:研磨是一种利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的工艺方法。在平面研磨中,要求工件运动轨迹均匀地遍及整个下载全文 更多同类文献 PDF全文下载 4) “8 ” 字形研磨 运动轨迹。适用于小平面工件的研磨和平板类工件的修 整, 能使相互研磨的平面介质均匀接触 , 并使研具均匀地 磨损。 1. 1 行星式研磨原理及轨迹 平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构 , 如图 1 所示, , 被加工件放在行星轮孔内行星式双平面多工件研磨盘设计边培莹 百度文库

  • 平面研磨的运动轨迹及原理

    密封面研磨的基本原理包括研磨过程、研磨运动、研磨速度、研磨压力及研磨余量五个方面 1研磨过程 研具与密封圈表面很好的贴 在线咨询 通过轨迹插补和实时控制,在每个伺服控制周期给出各个联动坐标轴的运动增量,实时控制所有坐标轴的联动2021年1月26日 — 平面研磨的运动轨迹及原理 2013年1月8日 平面研磨机的运动和轨迹分析上海中晶企业发展有限公司JOM 隔离盘作行星运动的平面研磨机的运动又有两种情况。上、下研磨盘固定不动,研磨运动 UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 《东北大学 平面研磨的运动轨迹及原理

  • UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 百度学术

    本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件,以UNIPOL802平面研磨机为试验平台,运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法,从磨粒运动轨迹的角度着手,重点研究了平面研磨加工时工件转速及加工表面质量的影响因素,主要内容如下: 对平面研磨技术基础概念